在空氣分離法制取的氧氣中，氬和氮是難以完全去除的主要殘留組分。盡管二者化學性質穩定，但在某些高精尖應用中，其微量存在仍可能對工藝過程產生不利影響。

為此，GB/T 14599—2008 對純氧、高純氧和超純氧中的氬（Ar）與氮（N?）含量設定了逐級嚴格的限值：例如，超純氧中 Ar ≤ 0.2×10??，N? ≤ 0.1×10??（體積分數）。

為準確測定如此低濃度的雜質，標準第4.3條詳細規定了采用氣相色譜法（GC） 的技術路線。由于氧氣本身具有強氧化性且濃度極高，直接進樣會干擾檢測器并影響色譜柱壽命，

因此需先通過脫氧柱將基體氧去除。標準推薦使用內裝401脫氧劑的玻璃或不銹鋼柱，有效將O?轉化為固態氧化物，從而保護后續分析系統。

脫氧后的氣體進入分子篩色譜柱（如5A或13X型，粒徑250–400 μm），利用吸附性能差異實現Ar與N?的分離。檢測器方面，標準建議采用氦離子化檢測器（HID）或放電離子化檢測器（DID），

其檢測限可達0.05×10??，滿足超純氧分析需求。

定量采用外標法：使用已知濃度的標準氣體（如含1–5×10?? Ar/N?的氧基標氣）進行儀器標定，記錄峰面積或峰高；隨后測定樣品，通過公式 φ? = (φ? × A?) / A? 計算雜質含量。

標準要求重復進樣兩次，相對平均偏差不超過5%，以確保數據可靠性。

采樣過程亦有嚴格規定：瓶裝氣需通過針形閥連接金屬管線，并經至少三次升/降壓置換；液氧需汽化后進樣；管道氣采樣點由供需雙方協商確定。

該方法不僅適用于Ar和N?，還可擴展至氪等其他稀有氣體的測定，為高純氣體質量控制提供了可靠的技術支撐。